濺射離子泵：高壓電場(chǎng)加速電子電離氣體，正離子被鈦陰極捕獲，鈦受轟擊濺射形成薄膜吸附殘余氣體，量程 10?3~10?11Pa，無油潔凈；?
升華離子泵：加熱鈦源使其升華，鈦膜主動(dòng)吸附氣體，配合電離捕集惰性氣體，量程 10??~10?12Pa，極限真空更高；?
復(fù)合型離子泵：融合濺射與升華技術(shù)，兼顧抽速與極限真空，量程 10??~10?12Pa，適配多氣體成分場(chǎng)景。

真空設(shè)備配套：為渦輪分子泵、真空腔室后續(xù)抽氣，保障系統(tǒng)極限真空；監(jiān)測(cè)殘余氣體，判斷真空系統(tǒng)是否漏氣；?
科研實(shí)驗(yàn)：為粒子加速器、核聚變裝置構(gòu)建 10??Pa 以下超高真空，減少干擾；為 TEM/SEM、表面物理實(shí)驗(yàn)提供潔凈真空，提升精度；?
工業(yè)生產(chǎn)：半導(dǎo)體光刻、離子注入中維持潔凈真空，避免雜質(zhì)影響芯片制程；光學(xué)鍍膜（激光鏡片、航天元件）中保障膜層質(zhì)量；?
航天軍工：模擬太空 10?1?Pa 以下真空，測(cè)試航天器部件；為紅外探測(cè)器、精密傳感器提供真空封裝，確保穩(wěn)定性。