一、工作原理

二、應用場景

1. 半導體制造：保障光刻、離子注入等工藝的高真空環(huán)境，避免雜質污染，確保芯片精度與性能；
2. 科學研究：為加速器、電子顯微鏡等提供 10??Pa 以下超高真空，降低實驗干擾；
3. 真空鍍膜：維持穩(wěn)定真空，減少薄膜缺陷，提升光學、耐磨性能；
4. 本公司除氣爐設備：
   • 應用于不銹鋼精密工件（如航空連接件）除氣，將爐內真空度穩(wěn)定在 10??Pa 以下，去除 H?、O?等殘留氣體，使材料氣體殘留量≤5ppm；
   • 相比傳統(tǒng)系統(tǒng)，設備潔凈度提升 10 倍、除氣效率提高 30%，工件良品率從 92% 升至 99.5%，獲高端制造客戶復購。

渦輪分子泵類目：

1. 控制器渦輪分子泵

   

2. 真空渦輪分子泵

   

3. 一體化渦輪分子泵系統(tǒng)

   

4. 模塊化渦輪分子泵系統(tǒng)